INTEROCC 研究中职业暴露于极低频磁场和脑肿瘤风险。
摘要来源：癌症流行病生物标志物2014 年 9 月；23(9):1863-72。 Epub 2014 年 6 月 16 日。PMID：24935666
摘要作者：Michelle C Turner、Geza Benke、Joseph D Bowman、Jordi Figuerola、Sarah弗莱明、Martine Hours、Laurel Kincl、Daniel Krewski、Dave McLean、Marie-Elise Parent、Lesley Richardson、Siegal Sadetzki、Klaus Schlaefer、Brigitte Schlehofer、Joachim Schüz、Jack Siemiatycki、Martie van Tongeren、Elisabeth Cardis
文章隶属关系：米歇尔·C·特纳
摘要：背景：职业接触极低频磁场抽动场（ELF）被怀疑是脑肿瘤的危险因素，但文献并不一致。很少有研究评估不同暴露时间窗的 ELF 是否可能与脑肿瘤的特定组织学类型相关。本研究在大规模 INTEROCC 研究中探讨了 ELF 与脑肿瘤之间的关联。
方法：成人原发性脑肿瘤病例2000 年至 2004 年间，在七个国家（澳大利亚、加拿大、法国、德国、以色列、新西兰和英国）招募了神经胶质瘤和脑膜瘤患者。 估计分配了基于工作暴露矩阵的平均工作日 ELF 暴露。计算终生以及诊断/参考日期前 1 至 4、5 至 9 和 10 年以上的累积暴露、平均暴露、最大暴露和暴露持续时间的估计值。
结果：纳入了 3,761 例脑肿瘤病例（1,939 glioma 和 1,822 例脑膜瘤）和 5,404 例人群对照。终生累积 ELF 暴露与神经胶质瘤或脑膜瘤风险之间没有关联。然而，诊断/参考日期前 1 至 4 年的累积 ELF 与神经胶质瘤之间存在正相关[比值比 (OR) ≥ 90% vs.<25%，1.67； 95%置信区间（CI），1.36-2.07； P线性趋势<0.0001]，并且与脑膜瘤的关联性稍弱（OR≥ 90% vs.<25%，1.23；95% CI，0.97-1.57；P线性趋势 = 0.02）。
结论： 结果显示最近的 ELF 与神经胶质瘤之间呈正相关。
影响：职业 ELF暴露可能在脑肿瘤发生的后期（促进和进展）中发挥作用。