这些结果表明，补充叶酸对低剂量电离辐射诱导的基因组不稳定性的放射保护作用

补充叶酸对低剂量电离辐射诱导的基因组不稳定性的辐射保护作用。

印度J Exp Biol。 2016 08; 54（8）：537-43。 pmid： 28577512

Gisel Padula，MaríaVirginia Ponzinibbio，Analia I Seoane

Gisel Padula

电离辐射（IR）通过产生单链和双链断裂和活性氧（ROS）引起DNA损伤。叶酸（FA）通过修饰DNA合成和/或修复以及作为自由基清除剂来防止辐射诱导的DNA损伤。我们假设在体外补充Fa将降低细胞对低剂量电离辐射引起的遗传损伤的敏感性。在培养的CHO细胞中进行了膜联蛋白V，彗星和微核测定法。经过7天的前进用0、100、200或300 nm FA的培养物暴露于辐射（100 msv）。执行了两个未辐照的对照（0和100 nm FA）。通过X2检验和线性回归分析（P0.05）对数据进行统计分析。我们观察到随着FA浓度的升高，凋亡细胞的频率显着降低（P <0.05）。分析DNA损伤和染色体不稳定性时观察到相同的趋势（300 nm的p <0.05）。仅微核频率在线性回归分析中显示出显着差异（R2 = 94.04； P <0.01）。我们的结果表明，补充叶酸对低剂量电离辐射诱导的基因组不稳定性的放射保护作用。研究低剂量辐射在环境或职业暴露中的影响时，应考虑叶酸状况。