摘要标题：
非热电磁辐射对镜头上皮的损害。
摘要来源：
Open Ophthalmol J. 2008年5月21日； 2：102-6。 EPUB 2008年5月21日。PMID： 19517034“> 19517034 Sharon，LeviSchächter，Assaf Lahav，Ahuva Dovrat
文章隶属关系：Elvira Bormusov
摘要：高频微波炉电磁辐射来自移动电话和其他现代设备具有损坏眼组织的潜力，但其对Lens Epiceselium的影响却是一致的。这项研究的目的是研究高频微波电磁辐射（1.1GHz，2.22 mW）对现场上皮细胞的非热作用。将牛透镜在35°C的器官培养中孵育10-15天。一种新型的计算机控制的微波源用于研究微波径的效果镜片上的景色。这项研究使用了58个镜头。将镜片分为四组：（1）在器官培养中孵育10至15天的对照透镜。 （2）用1.1 GHz，2.22 MW微波辐射治疗的电磁放射线暴露组，用于90个50分钟的辐射，然后停顿10分钟，并培养长达10天。 （3）电磁辐射暴露组被视为2组，辐射循环为192个循环，并培养15天。 （4）在培养的第二天开始每次治疗后，每次治疗后24小时暴露于39.5°C 2小时3次，并进行培养11天。在培养期间，每天都有计算机扫描激光束随后进行镜头光学质量。在培养期结束时，通过形态学和评估晶状体上皮ATPase活性对对照和处理的晶状体进行了分析。暴露于1.1 GHz，2.22 MW微波导致镜头光学质量可逆降低，伴随晶状体上皮细胞层的不可逆形态和生化损害。电磁辐射对透镜上皮的影响与导电热的影响大不相同。这项研究的结果表明，来自微波辐射的电磁场对眼镜晶状体有负面影响。电磁场造成的晶状体损伤与导电热引起的镜头明显不同。