摘要标题：
对羟基苯甲酸甲酯会增强紫外线引起的皮肤角质细胞损伤。
摘要来源：毒理学。 2006 年 10 月 3 日；227(1-2):62-72。 Epub 2006 年 7 月 28 日。PMID：16938376
摘要作者：Osamu Handa、Satoshi Kokura、Satoko Adachi、Tomohisa Takagi、Yuji Naito、Toru Tanikawa、Norimasa Yoshida、Toshikazu Yoshikawa
文章所属单位：京都府立医科大学生物医学安全科学系，京都 602-8566，日本。
摘要：对于许多人来说多年来，对羟基苯甲酸甲酯（MP）一直被用作化妆品中的防腐剂。在这项研究中，我们研究了紫外线 B (UVB) 暴露对 MP 处理的人类皮肤角质形成细胞的影响。 HaCaT角质形成细胞在含MP的培养基中培养24小时，暴露于UVB（15或30 mJ/cm(2)）并进一步培养24小时。随后的细胞活力通过基于 MTT 的测定进行量化，并且细胞死亡是 q通过荧光显微镜和流式细胞仪进行渗透。使用荧光探针测量氧化应激，一氧化氮（NO）产生和细胞脂质过氧化。此外，通过电渗型凝胶移位测定法评估了核因子KAPPA B和活化剂蛋白-1的激活。实际浓度的MP（0.003％）对HACAT角质形成细胞中核转录因子的细胞活力，氧化应激，无生产，脂质过氧化和激活的影响略有或没有影响。低剂量UVB对HACAT角质形成细胞中的这些参数也几乎没有影响。然而，UVB暴露显着增加了细胞死亡，氧化应激，无产生，脂质过氧化和MP处理的HACAT角化形成细胞中转录因子的激活。这些结果表明，在暴露于阳光的情况下，MP被认为是化妆品中安全的防腐剂，可能对人皮肤有害影响。